Dissertação de Mestrado #335: Rodrigo Andrade

Esse trabalho trata da investigação de filmes de siliceto de ferro obtidos por dois diferentes métodos de evaporação: a deposição de ferro sobre superfícies cristalinas de silício à temperatura ambiente seguida pela reação de estado sólido induzida por aquecimento (Epitaxia de Fase Sólida – SPE) e a deposição de ferro sobre o substrato de silício aquecido (Epitaxia de Deposição Reativa – RDE). Os filmes produzidos sob diferentes regimes térmicos foram analisados ex-situ por Difração de Raios-X e os resultados foram confrontados com uma análise realizada anteriormente através da Espectroscopia Mössbauer por Elétrons de Conversão. Os resultados mostraram que existem filmes compostos de e-FeSi e b-FeSi2, além de filmes que apresentam misturas de outras fases do siliceto de ferro como Fe3Si + e-FeSi e e-FeSi + b-FeSi2. Observou-se ainda que as condições termodinâmicas favoráveis para a formação do b-FeSi2 ocorrem entre 700oC e 800oC para amostras preparadas por SPE e entre 600oC e 700oC para amostras preparadas por RDE. Nessas amostras crescidas por RDE observa-se que o aumento da temperatura de crescimento favorece a direção de crescimento (220)/(202). Analisando o filme de b-FeSi2 crescido à 700oC no Microscópio Eletrônico de Transmissão pode-se notar que esses grãos de b-FeSi2 não possuem orientação lateral única e suas dimensões estão compreendidas entre 60 e 210nm.