Dissertação de Mestrado #624 – Leonardo Oliveira Machado de Sousa – 26/06/2019

No presente trabalho, foi estudada a estrutura atômica da interface Grafeno/Ni(111) intercalada com monocamadas de Cobalto (Co), utilizando-se ciclos intermediários de annealing e sputtering em um sistema de Ultra Alto Vácuo (UHV) equipado com sistemas de limpeza, aquecimento e evaporação, em uma pressão base de 10^-10 bar, através das técnicas de Difração de Fotoelétrons (PhD) e Difração de Elétrons de Baixa Energia (LEED).

Os resultados experimentais indicam uma transição de estrutura de superfície após a evaporação de 2 monocamadas (ML – monolayers) de Cobalto. Simulações realizadas com o programa MSCD (Multiple Scattering Calculation of Diffraction) indicam a difusão do Cobalto evaporado e a formação de uma liga Níquel-Cobalto para pequenas concentrações de Cobalto evaporado (0.5ML e 1ML), seguindo a estrutura de volume (bulk) do Níquel em um empilhamento fcc (ABCABC…), concordando com resultados prévios do sistema Grafeno/Ni(111). Para 2ML, 3ML e 4ML, ocorre uma mudança no empilhamento do sistema, que passa a ter regiões do tipo hcp (ABABAB…). Uma configuração energeticamente desfavorável da camada de Grafeno, denominada hcp-hollow, é detectada no sistema para 2ML ou mais de Co intercalado.